Lokalizacja: Budynek B-5 pok. 801 i 814
Opiekunowie laboratorium: dr inż. Łukasz Cieniek, dr hab. inż. Sławomir Kąc, prof. AGH
Specyfikacja: LB-2
W laboratorium odbywa się wytwarzanie cienkich warstw, o określonym składzie stechiometrycznym: metalicznych, niemetalicznych, tlenkowych, o grubości od kilkunastu nanometrów do kilku mikrometrów, na różnorodnych podłożach (metalicznych, polimerowych i in.) metodą osadzania za pomocą lasera impulsowego PLD (ang. Pulsed Laser Deposition), wykorzystując zjawisko ablacji laserowej lub metodą osadzania za pomocą impulsowego działa elektronowego PED (ang. Pulsed Electron Deposition).
Każdy system do osadzania cienkich warstw wyposażony jest w laser impulsowy/impulsowe działo elektronowe oraz reakcyjną komorę próżniową o objętości ok. 20 l z możliwością stosowania różnych atmosfer gazowych (tlen, azot, argon i in.) Wielkość osiąganej próżni wynosi ok. 8×10-6 mbar dzięki zastosowaniu układu pomp: rotacyjnej i turbomolekularnej. Istnieje możliwość podgrzewania podłoży do 950oC (piecyk oporowy firmy NEOCERA).
Wykonuje się również modyfikacje warstw wierzchnich metali i innych materiałów za pomocą obróbki laserowej, np.: laserowe powierzchniowe hartowanie, stopowanie, napawanie, cięcie, spawanie cienkich blach do grubości ok. 1,5 mm z dokładnością przesuwu wiązki 0,01 mm.
1. System próżniowy do ablacji laserowej i elektronowej prod. NEOCERA
W skład stanowiska do ablacji laserowej i elektronowej wchodzą trzy połączone i współpracujące ze sobą urządzenia:
– laser impulsowy wysokiej mocy na ciele stałym Nd:YAG (Powerlite Precision II 9010 DLS prod. Continuum)
– komora prózniowa (Pioneer 180 prod. Neocera LCC)
– impulsowe działo elektronowe PED Neocera PEBS-20
2. System próżniowy do ablacji laserowej z laserem impulsowym LOTIS Tii Nd:YAG, LS-2147
3. Laser Nd:YAG CTL-1503
